• <ul id="oeukq"><strike id="oeukq"></strike></ul>
    <blockquote id="oeukq"></blockquote>
    <del id="oeukq"><dfn id="oeukq"></dfn></del>
    <strike id="oeukq"><menu id="oeukq"></menu></strike>
  • 失效分析

    失效分析是針對產(chǎn)品、部件或系統(tǒng)在預(yù)期使用中出現(xiàn)功能異常、性能下降、損壞乃至失效的現(xiàn)象,運用科學(xué)方法追溯根源、明確機理,并提出改進方案以預(yù)防類似問題的系統(tǒng)性技術(shù)活動,核心是解答 “為何失效、如何發(fā)生、怎樣避免”,廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、汽車等多領(lǐng)域。

    其核心價值顯著:一是解決當(dāng)下問題,快速定位故障根源,如芯片燒毀、零部件斷裂等,縮短排查時間,減少生產(chǎn)停滯與投訴損失;二是預(yù)防未來風(fēng)險,通過分析材料老化、設(shè)計缺陷等失效機理,優(yōu)化設(shè)計、改進工藝,從源頭降低失效概率;三是支撐質(zhì)量與研發(fā),研發(fā)階段可模擬失效測試驗證可靠性,量產(chǎn)階段能監(jiān)控批次質(zhì)量,是質(zhì)量保證和技術(shù)迭代的關(guān)鍵。

    以電子 / 半導(dǎo)體領(lǐng)域為例:首先確認(rèn)失效現(xiàn)象,記錄產(chǎn)品異常表現(xiàn),核對使用環(huán)境、生產(chǎn)批次等信息;接著進行非破壞性分析,用外觀檢查、電性能測試等手段初步排查;若需進一步定位,再開展破壞性分析,如芯片開封、截面研磨等;隨后結(jié)合檢測數(shù)據(jù)判斷失效機理,最后提出并跟蹤改進方案。

    應(yīng)用場景豐富多樣:半導(dǎo)體領(lǐng)域,分析芯片失效,是相關(guān)企業(yè)的核心技術(shù)環(huán)節(jié);汽車領(lǐng)域,排查車載電子與機械部件失效,保障行車安全;醫(yī)療設(shè)備領(lǐng)域,定位診斷與植入設(shè)備問題,關(guān)乎醫(yī)療安全;司法鑒定領(lǐng)域,分析失效產(chǎn)品,為責(zé)任認(rèn)定提供技術(shù)依據(jù)。

    失效分析是連接故障解決與質(zhì)量提升的橋梁,既是企業(yè)應(yīng)對突發(fā)問題的 “急救工具”,也是推動產(chǎn)業(yè)向高可靠性、高安全性發(fā)展的 “技術(shù)基石”。


    失效分析 分類


    d0d04eca-bce1-4bca-8553-a7b5693ecd7f.png


    非破壞性分析

    ·SAT   ·2DX-Ray   ·3D X-Ray:ZEISS Xradia 620 Versa

    3D X-Ray:

    1. 實現(xiàn)大工作距離下大尺寸樣品的高分辨率成像,最高分辨率可達0.5μm;

    2. 電壓范圍:30KV-160KV,最大輸出功率:25W;

    3. 樣品臺行程:50mm*100mm*50mm。



    綜合分析

    1、失效位置定位


    InGaAs

    OBIRCH

    Themal

    Power限制

    可外接

    25V/100μA,10V/100mA

    可外接

    分析速度

    捕捉特性

    光子

    激光加熱后的電阻變化

    (可不進行破壞)

    波長范圍

    900nm~1700nm

    NA

     3.7μm~5.2μm

    分析案件

    MOSFET漏電IC漏電(μA)

    IC短路.電阻式漏電

    IC漏電.短路PCB短路,LU失效定位

    不易分析特性

    金屬遮蔽,電阻式缺陷.不發(fā)光缺陷

    金屬遮蔽且不易加熱.多晶電阻或偏壓電場的干擾

    功耗較小,熱度低


    2、樣品制備

    ·Polish:進行定點/非定點研磨,結(jié)合Ion Milling的使用給出更清晰的截面效果。

    ·Decap:金線、銅線、鍍鈀銅線、銀線,各種封裝,包括超小封裝。

    ·Delayer:RIE通過采用O2、CF4、CHF3、SF6等離子氣體可以去除Oxide、Nitride、Polyimide、si等材質(zhì),結(jié)合物理研磨對高階芯片及BSI樣品進行去層。


    3、SEM掃描電子顯微鏡/Dual Beam FIB 雙束聚焦離子束

    HWD的掃描電鏡包含多品牌的冷場和熱場SEM。滿足高分辨的觀察;配備EDS,能夠?qū)悠愤M行表面成份分析。YAG探頭可提供更清晰的圖片。同時配備多臺DB FIB進行納米級樣品制備,冷、熱場相結(jié)合,實現(xiàn)為客戶收集更全面數(shù)據(jù)的效果。


    4、FIB CKT 線路修補

    FIB 線路修補設(shè)備Thermo ScientificTM CENTRIOS

    線路修補設(shè)備可以對鋁制程、銅制程、金制程樣品進行電路修改。


    5、納米探針 Nanoprober NP8000

    規(guī)格

    用途

    100eV探測電壓

    有效避免電荷積累,增加SEM解析度,確保對于最先進制程器件無輻照電性損傷

    DI-EBAC:施加電壓的EBAC功能

    最大200nA 束流,使更低倍率下捕捉hotspot成為可能,提高分析效率;相應(yīng)升級DI-EBAC放大器,甚至可對低至10Ω以下的short進行定位,完整表征電流回路

    EBAC

    發(fā)現(xiàn)低至~100Ω的3D互連結(jié)構(gòu)中的關(guān)鍵故障

    PulsingIV量測

    偵測閘極高阻之現(xiàn)象

    IV量測:0.1fA/0.5V測量分辨率

    可支持8根針量測

    高低溫測試

    -50~150℃復(fù)現(xiàn)高溫/低溫故障


    常見問題
     
    我們的優(yōu)勢
    權(quán)威資質(zhì)

    HWD丨華威達是一家集檢驗、檢測、計量、認(rèn)證、培訓(xùn)、企業(yè)技術(shù)服務(wù)于一體的綜合性第三方服務(wù)機構(gòu)。華威達下設(shè)管理中心、市場客服中心、實驗室、認(rèn)證中心、管理學(xué)院、可持續(xù)發(fā)展中心、企服中心,致力于為客戶提供專業(yè)、高效、權(quán)威的企業(yè)一站式解決方案。

    HWD丨華威達獲得了CNCA批準(zhǔn)證書、CMA資質(zhì)、計量標(biāo)準(zhǔn)考核證書及CNAS認(rèn)可資質(zhì)等。

    我們追求與客戶建立長遠(yuǎn)、互信的合作關(guān)系。我們不僅是您當(dāng)前項目的服務(wù)商,更希望成為您在追求卓越管理道路上的可靠智庫與同行者。

    選擇我們,意味著您選擇的不僅是一項服務(wù),更是一個以專業(yè)為基石、以您成功為使命的長期伙伴。我們承諾,以專業(yè)的力量,為您構(gòu)建堅實的管理基礎(chǔ)與可持續(xù)的競爭優(yōu)勢。

    即刻提交您的需求
    華威達專家團隊為您提供優(yōu)質(zhì)解決方案
    相關(guān)下載

    Tel:021-6409 0330
             13917723034

    Email:info@shatc.group

    ? Copyright 華威達檢測認(rèn)證(上海)有限公司版權(quán)所有 ICP備案/許可證號 16029900號-1
  • <ul id="oeukq"><strike id="oeukq"></strike></ul>
    <blockquote id="oeukq"></blockquote>
    <del id="oeukq"><dfn id="oeukq"></dfn></del>
    <strike id="oeukq"><menu id="oeukq"></menu></strike>